057 EUV光刻机三大核心模块研发完毕，CES电子消费展留下后手！（第四更）（1 / 5）
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当时叶龙查看这项技术的时候，异常兴奋。
搞懂原理之后，
马上研发，
很快搞定。
刚刚他试验过了，
光源模块满足要求，
比他预想的效果还要好。
紧接着，
他马上又研发镜头模块。
这也是重中之重。
要求极高：
一，超高精度。【镜头均匀度，纯净度，镜片数量要多】
二，反射效率要极高。【表面涂层避光性要极高，对涂层材料要求极高，一般镀有采用Mo/Si的多层膜结构】
三，少损失能量。【距离短，反射镜片少】
目前全球范围内，
能够制造这种镜头的，只有德意志国的蔡司镜头才能满足要求。
荷国阿斯麦公司的EUV光刻机，采用的就是这种镜头。
当然，
如此先进的镜头，
有米国的阻挠，
夏国公司自然买不到。