第九六五章 最高水平（1 / 2）

一旦bsec光源研究所在重生者的指引下，在arf准分子激光器专利技术的基础上，研制成功arfi准分子激光器和浸没式光刻系统，虽然浸没式光刻系统的专利技术属于bsec，但根据双方签订的专利技术转让协定，arfi准分子激光器的专利技术就属于gca！

gca生产arfi准分子激光器，购买bsec的浸没式光刻系统专利技术，也能生产浸没式光刻机。

早一日研制成功8英寸晶圆、35nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，制程工艺最高就能提升到25nm，凭借提高35%的生产效率，gikon光刻机的高端市场份额，夺回全球高端光刻机市场。

峰回路转！

艾德里安、汤普森的心情比魏建国、邓国辉还急迫。

谈判和签订专利技术转让协定期间，孙健不在京城，艾德里安和魏建国都拿着他签署的代理书谈判，双方公司的律师在场监督，并在专利技术转让协定上签字证明。

专利技术转让协定符合中美法律。

巴t协定禁止8英寸晶圆和5nm制程工艺的半导体生产线出口中g，但没有禁止arf准分子激光器出口，8nm制程工艺专利技术也不在禁令之中。

美国人知道就是中g光刻机公司耗费巨资买到了arf准分子激光器和8nm制程工艺专利技术，也生产不出6英寸晶圆和8nm制程工艺的半导体生产线。

光刻机被称为半导体产业皇冠上的明珠，占一条半导体生产线总投资的1/3，除了光源、镜头和工作台三大核心技术之外，还需要光速矫正器、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台和光束形状设置，复杂程度超过大型航空发动机。

就像一般飞机制造厂买到一台顶级航空发动机，也不能生产顶级飞机。

国内光刻机半导体设备产业停滞了近十年，相关配套产业掉队太远，不是短时间用钱能买来的！

bsec如今拿到了arf准分子激光器和8nm制程工艺专利技术，还有独创的磁悬浮式双工作台系统，既不能生产8英寸晶圆、8nm制程工艺的光刻机，也不能生产6英寸晶圆、8nm制程工艺的半导体生产线。

bsec还要去买先进的光学系统，进口6英寸晶圆、光刻胶、掩膜版等材料和设备，经过系统合成，就是能生产6英寸晶圆、8nm制程工艺的光刻机，只能算组装。

前世asml生产的euv光刻机，据说9%的零部件都是从全球5多家公司采购的，但euv光源（收购了cymer和双工作台系统等关键技术是自己的，还参股了zeisssmtag近三成的股权，将光刻机的三大核心技术掌握在手里，由于垄断经营，净利润高达五成，全球5多家零部件公司排队供应零部件。

只要搭上asml这列豪华列车，零部件公司的股价就会暴涨。

各国制定的《反垄断法》在asml面前如同一张白纸！

邓国辉拿到arf准分子激光器专利技术，同光源研究所所长助理钱富强仔细研究一番后，如醍醐灌顶，豁然开朗，第二天就申请2万元的研发资金，定购新的机器设备和材料，如今带领光源研究所在新的实验室内，按照gca提供的技术图纸，消化吸收arf准分子激光器专利技术，为研究arfi准分子激光器和浸入式系统做准备。

等机器设备和材料到位后，光源厂工程师和技师将按照光源研究所提供的技术图纸，生产arf准分子激光器。