第118章 鸿蒙光刻机首测！允许100nm的误差，你竟然去了个0？莫向南的震惊！（1 / 6）
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第118章鸿蒙光刻机首测！允许100nm的误差，你竟然去了个0？莫向南的震惊！【求自订！】
从沙子到芯片。
要经历硅熔炼-硅晶桩-切割-剖光-晶圆-沉积-涂胶-光刻-显影-刻蚀-清洗...3D结构-硅片测试-切割-封装测试等一系列环节。
整个芯片制作的过程，是一个巨大的产业链~。
这其中有着非常-多繁复的环节。
而光刻是其中的一环，是技术难度极高的一环。
也是一直限制着国内芯片事业发展的重中之重。
毫不夸张的说。
光刻机是世界工业体系百年积累的结晶，整个机器需要三万余个零件，每一个零件都不能有丝毫偏差，一丝一毫的偏差都不能使千万的电路一丝不乱，毫无偏差的分布在指甲盖大小的芯片上面。
制作一枚芯片。
首先要做的。
就是制作一个晶圆薄片。
如果用打印来形容整个工作。
那么晶圆就是其中承载笔墨的空白纸张。
光刻，就是用光刻机在这张纸张上打印出完整的电路来。
其中晶圆加工和氧化就是为了获取一个完整的，表面整洁并且拥有一个氧化保护膜的晶圆而设计的。
晶圆的加工是非常精密的。
要求更是达到了纳米级别，这还只是芯片制作工艺中最简单的一步。
随着沈飞的指令下达。
顿时，早已安装调试到位的生产线，开动了起来。